半导体超微电极:电化学芯片系统新灵感

中国科学院化学研究所的胡文平研究组与国家纳米科学中心的技术人员合作,发展了一种原位制备片上半导体超微电极及其阵列的方法。研究人员利用聚焦离子束刻蚀技术(Focused ion beam lithography,FIB),实现了在Si/SiO2基片上一步获得形貌尺寸精确可控的嵌入式n-Si超微电极阵列。