Small Methods: 深度解析碳氧化硅材料储钠过程中硅的氧化还原反应机理

近日乌尔姆亥姆霍兹研究所的Daniel Buchholz博士以及Stefano Passerini教授以碳氧化硅为目标材料,探索了硅基材料的储钠机理,并通过系列表征方法展示了硅在该材料储钠过程中可以发生以钠离子嵌入脱出为主导的氧化还原反应。